基于在真空、材料以及半导体设备方面的技术累计，向客户提供先进材料刻蚀、生长与表面处理设备及服务。产品涵盖硅基材料、化合物半导体材料以及二维薄膜材料应用方向，在二维薄膜材料的生长制备及刻蚀方面具有独特的技术优势。目前公司核心产品主要包括：Open-Load反应离子刻蚀设备、Load-Lock反应离子刻蚀设备、离子束刻蚀设备、超低能离子束刻蚀设备、物理气相沉积设备、等离子体增强型化学气相沉积设备、管式二维材料薄膜沉积设备、等离子体清洗设备。已经形成了材料刻蚀、薄膜生长以及等离子体表面处理三大产品体系。